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青岛微弘设备技术有限公司
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扩散炉

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    氧化/扩散炉

扩散炉应用于半导体分立器件、光电子器件、电力电子器件、太阳能电池及大规模集成电路制造领域对晶片进行扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺,可用于2-8英寸工艺尺寸。

产品特点:

可保存多条工艺曲线每条曲线可设置多步

工艺曲线的自动运行控制功能

工艺中可强制跳到下一工艺步运行功能

自动运行中可暂停/继续运行功能

可存储多组PID参数供系统运行调用功能

PID参数自整定功能

工艺气体的程序控制功能

关键部件全部具有高可靠性

具有良好的人机界面

系统故障自诊功能

停电后断点继续运行功能等等

具有历史记录功能,可打印

具有多点温度补偿

该系统可根据用户的特殊要求增减开发相应的功能

技术指标



可配置工艺管外径2~8英寸

可配置工艺管数量:1~4管/台

工作温度范围:400~1300℃

恒温区长度:300~1250mm

恒温区精度:800~1300℃±0.5℃

单点温度稳定性:800~1300℃±0.5℃/24h

*大可控升温速率:15℃/min

*大降温速率:5℃/min

 
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